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第二十讲 真空离子镀膜

张以忱  
【摘要】:正(接2019年第1期第80页)典型的ARE装置见图12。这种装置的蒸发源通常采用e型枪。真空室结构分上下两室,上室为蒸镀室,下室为电子束源的热丝发射室,两室之间设有压差孔,电子枪发射的电子束经压差孔偏转聚焦在坩埚中心使膜材加热蒸发。采用这种枪即可加热蒸发高熔点金属,又为激活金属蒸气粒子提供了电子,为高熔点金属化合物膜的制

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