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真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜

张以忱  
【摘要】:正1概述真空蒸发镀膜(简称蒸镀)是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是PVD技术中发展最早,应用较为广泛的镀膜技术,尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越,但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点,如设备与工艺相对比较简单,可沉积非常纯净的膜层等等,因此,真空蒸发镀膜仍然是当今非常重要的镀膜技术。近年来由于电子轰击蒸发,高频感应蒸发以及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用,使这一技术更趋完善。

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