收藏本站
收藏 | 投稿 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

圆平面磁控溅射靶磁场的ANSYS模拟分析

张以忱  王德志  李灿伦  王维  
【摘要】:磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性。为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,作者应用ANSYS软件对SD500型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行模拟,应用SHT-V型特斯拉计通过同心十字线法对实物靶表面磁感应强度进行测试,将模拟结果与测量结果进行比较,证明其模拟的准确性。进而对圆平面磁控靶的结构参数进行优化设计,得出靶与磁钢间距为3 mm、磁钢高度为15 mm、内磁柱半径为4 mm、内磁柱高度为14 mm时靶面水平磁感应强度最强、分布最均匀。在工程应用中,设计人员可以预先对靶的参数进行优化设计,使设计的磁控溅射靶更好的满足生产和科学研究的需要。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 弥谦;潘婷;袁渊明;;磁约束磁控溅射源工作特性及沉积速率的分析[J];西安工业大学学报;2011年03期
2 ;[J];;年期
3 ;[J];;年期
4 ;[J];;年期
5 ;[J];;年期
6 ;[J];;年期
7 ;[J];;年期
8 ;[J];;年期
9 ;[J];;年期
10 ;[J];;年期
11 ;[J];;年期
12 ;[J];;年期
13 ;[J];;年期
14 ;[J];;年期
15 ;[J];;年期
16 ;[J];;年期
17 ;[J];;年期
18 ;[J];;年期
19 ;[J];;年期
20 ;[J];;年期
中国硕士学位论文全文数据库 前1条
1 杨林生;非平衡磁控溅射方法替代电沉积技术的应用工艺研究与设计[D];合肥工业大学;2010年
中国知网广告投放
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978