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直流磁控溅射电源研制及输出特性研究

曹珍恩  巩春志  田修波  杨士勤  
【摘要】:磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,电源是磁控溅射镀膜的关键设备之一。本文介绍了全桥逆变直流磁控溅射电源主电路和控制电路的设计,该电源输出功率2 kW,采用PI恒流控制,具有过流保护。通过阻性负载测试表明电源具有很好恒流特性,在输出功率超过400 W时电源效率比较高。利用氮气/氩气不锈钢靶直流磁控溅射实际的等离子体负载测试表明:在保证真空室内压力不变的前提下,随着氮气比例的增加,电压下降,但电源恒流效果好,工作稳定。

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