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离子束辅助沉积制备TaN薄膜的X射线衍射分析

梅显秀  张庆瑜  马腾才  王煜明  滕凤恩  
【摘要】:利用离子束辅助沉积技术制备TaN薄膜,并对其进行X射线衍射分析。掠入射的X射线衍射分析得出:离子束辅助沉积制备的TaN薄膜是面心立方结构,晶格常数a为0.4405nm。根据X射线衍射分析,用屈服强度表征的TaN薄膜的显微硬度为16~20GPa,与文献上报道的显微硬度值接近。离子束辅助沉积制备的TaN薄膜宏观内应力较小,且都为压应力。晶粒尺寸大约在10nm左右,随着注入离子能量的增加,薄膜晶粒尺寸有长大的趋势。

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