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硅的离子束抛光技术研究

洪义麟  付绍军  陶晓明  黄文浩  褚家如  L.Monica  A.M.Baro  
【摘要】:介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法,并给出了不同抛光条件下表面粗糙度的原子力显微镜(AFM)测量结果,其中最好的表面粗糙度达0.12nm(有效值)。

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