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Ar离子束刻蚀对Gd-Ba-Cu-O超导薄膜的影响

胡先贞  
【摘要】:正 由于发现氧化铜基材料有高于90K的超导转变温度时,就强烈的促使人们了解超导性机理和寻找在液氮温度或液氮温度以上工作的超导器件。化学湿法刻蚀广泛的用于器件制造或器件参数测量的高Tc超导薄膜。对于干法处理,离子刻蚀有几种方法,如运用

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