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脉冲偏压离子镀的研究现状

张平  杜军  田飞  蔡志海  
【摘要】:脉冲偏压电弧离子镀的成膜过程远离热力学平衡态,与直流偏压电弧离子镀相比,具有成膜温度低、薄膜质量好和应力低等优点。从大颗粒净化作用、低温沉积、沉积速率、微观组织结构、内应力与结合强度、硬度等方面,综述了近年来脉冲偏压对薄膜性能影响的研究结果,重点讨论了机理方面的新成果,综述了脉冲偏压电源的研究状况,并对脉冲偏压电弧离子镀技术的应用前景进行了展望。

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