一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究

【摘要】：提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,该方法利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、达曼光栅、龙基光栅等各种矢量图形,经过14倍精缩光学系统,将由DMD芯片生成的二元光学器件图像成像在涂有光刻胶的基板上。经显影、定影和坚膜后,再利用电化学蚀刻,得到一种二元光学阵列的微芯模。这种二元光学的芯模制作方法可以方便、高效、低成本地用于制作微光学器件。

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前20条

1	徐满平,周杰,范明星,杨齐民;二元光学元件在模压全息母板拍摄中的应用[J];激光与光电子学进展;2004年10期
2	李琦,高惠德,董蕴华,申作春,王骐;整形二元光学元件衍射效率的研究[J];激光技术;2000年01期
3	李红军,赵晶丽,卢振武,廖江红,翁志成;二元光学元件制作过程中的线宽误差[J];光电子.激光;2000年03期
4	Modern Xu,Lucian Liu;光刻技术与光刻机[J];中国集成电路;2004年08期
5	张羽,杨坤涛,杨长城;二元光学元件的制作技术与进展[J];光学仪器;2005年02期
6	本刊编辑部;;193nm浸没式光刻技术发展现状及今后难点[J];电子工业专用设备;2006年04期
7	孙再吉;松下电器公司开发分辨率为0.25μm的光刻技术[J];固体电子学研究与进展;1993年01期
8	冯伯儒,张锦,侯德胜,陈芬;微光刻技术的发展[J];微细加工技术;2000年01期
9	David Lammers;;Intel:2011年前EUV无法在22nm大展拳脚[J];集成电路应用;2008年07期
10	Noelc·Magdonard;喻德政;;未来的光刻技术及设备[J];电子工业专用设备;1983年01期
11	冯伯儒;光刻技术及其极限和发展前景[J];光电工程;1994年02期
12	徐平,唐继跃,庞霖,郭履容,郭永康;深蚀刻二元光学元件制作误差模拟[J];中国激光;1997年06期
13	周崇喜,邱传凯,郑永超,杨志卿;半导体激光器列阵二元光学准直器的设计和制作[J];光电工程;1998年S1期
14	姚汉民;21世纪的光刻技术[J];世界产品与技术;2000年01期
15	Aaron Hand;;光刻专家探讨32nm节点的选择方案[J];集成电路应用;2007年03期
16	赵清泽;;表面等离子体纳米光刻技术探究[J];科技致富向导;2010年33期
17	谈苏庆,周进,高文琦;二元光学元件制作误差的振幅矢量分析法[J];激光技术;1996年05期
18	冯生荣,吴诚;二元光学在红外成像仪中的作用[J];红外技术;1999年05期
19	陈力敏,丁剑平,周进;矢量的扇形图示与二元光学元件衍射效应分析[J];激光杂志;2001年05期
20	何景瓷;用光刻技术制作天线阵面[J];航空制造技术;2004年09期

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前10条

1	龚勇清;刘智怀;高益庆;罗宁宁;李平贵;;一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究[A];第十七届十三省（市）光学学术年会暨“五省一市光学联合年会”论文集[C];2008年
2	温尚明;;21世纪微电子光刻技术与设备的发展对策研究[A];西部大开发科教先行与可持续发展——中国科协2000年学术年会文集[C];2000年
3	康果果;谢敬辉;刘祎;;用于非球面检测的计算全息设计及其精度分析[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
4	李涛;李洪祥;胡文平;;硅片上超微电极的光刻制备及其电化学表征[A];中国化学会第26届学术年会有机固体材料分会场论文集[C];2008年
5	纪强;姜学松;印杰;;结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法[A];2008非银盐影像技术及材料发展与应用学术研讨会论文集[C];2008年
6	纪强;姜学松;印杰;;结合光刻和反应性相分离技术发展一种简单有效制备微纳米复合图形的方法[A];2007年全国高分子学术论文报告会论文摘要集（上册）[C];2007年
7	周杰;徐满平;杨齐民;;全息拍摄中二元光学元件的应用[A];2005年中国光学学会全息与光学信息处理专业委员会年会暨建会20周年纪念会[C];2005年
8	程冠晓;邢廷文;林妩媚;周金梅;邱传凯;廖志杰;马建玲;;低数值孔径振幅光子筛的设计和制作[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
9	张力;汤儆;马信洲;田中群;田昭武;曲东升;丁庆勇;孙立宁;;约束刻蚀剂层技术用于p型硅表面电化学微加工的研究[A];第十三次全国电化学会议论文摘要集（下集）[C];2005年
10	张继成;吴卫东;许华;唐晓红;马小军;;微波等离子体离子束刻蚀技术[A];中国工程物理研究院科技年报（2005）[C];2005年

中国博士学位论文全文数据库

前10条

1	于斌;利用二元光学透镜轴向色散的凝视光谱成像性能研究[D];中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）;2003年
2	王晓东;大视场高精度星敏感器技术研究[D];中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）;2003年
3	杨祎巍;纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究[D];浙江大学;2010年
4	张锦;激光干涉光刻技术[D];四川大学;2003年
5	刘鹏;材料表面微米—纳米杂合图案的制备技术研究[D];复旦大学;2009年
6	李志士;二维有序图案化蛋白阵列的制备及其SERRS光谱检测[D];吉林大学;2012年
7	熊木地;大行程亚微米精度激光直写设备定位技术的研究[D];中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;2000年
8	王艳芳;聚合物多孔膜辅助构筑有机/无机有序微结构[D];吉林大学;2008年
9	郭育华;LIGA技术制作高性能微电子机械模具及其脱模性能的研究[D];中国科学技术大学;2007年
10	卢迎习;层状组装聚合物薄膜的室温压印[D];吉林大学;2007年

中国硕士学位论文全文数据库

前10条

1	贺德建;纳米压印光刻技术原理与实验研究[D];华中科技大学;2004年
2	何帅;动态渐变灰阶数字掩模技术制作微透镜的研究[D];南昌航空大学;2010年
3	邵桢;智能优化算法在光学CAD系统中的应用[D];长春理工大学;2004年
4	李扬环;反向光刻技术和版图复杂度研究[D];浙江大学;2012年
5	姚树歆;基于32nm光刻双重图形技术的研究和工艺实践[D];复旦大学;2011年
6	彭钦军;液晶实时掩膜光刻技术研究[D];四川大学;2003年
7	刘鹏;利用二元光学元件实现激光波前整形[D];大连理工大学;2008年
8	王平奇;数字光刻控制系统的研究与设计[D];南昌航空大学;2011年
9	王敏怡;采用二元光学元件的三维轮廓测量方法[D];苏州大学;2006年
10	孙伟;二元光学元件应用于超光谱成像性能研究[D];长春理工大学;2009年

中国重要报纸全文数据库

前10条

1	燕蕙;ASML支持EUV光刻技术[N];电子资讯时报;2004年
2	王琰;EUV光刻技术将于2009年量产[N];中国计算机报;2004年
3	燕蕙;台积电明年中启用193纳米湿浸式光刻技术[N];电子资讯时报;2004年
4	李壮;纳米浸入式光刻技术工业化在即[N];中国高新技术产业导报;2005年
5	记者　刘志达;清华与荷兰ASML合作研究光刻技术[N];光明日报;2002年
6	吴宗翰 DigiTimes;光刻技术跟不上发展恐有大瓶颈[N];电子资讯时报;2007年
7	;光刻技术实现20纳米刻制工艺突破[N];中国计算机报;2003年
8	文月;AMD采用超紫外光刻技术制造测试芯片[N];电子资讯时报;2008年
9	杨春;台积电计划发展EUV光刻技术技术和成本仍是最大障碍[N];电子资讯时报;2008年
10	记者张孟军;四大公司联手研发纳米光刻技术[N];科技日报;2005年

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