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Cr_2N薄膜抗氧化性能的研究

陈庆东  成钢  张树波  蒋仕级  
【摘要】:采用空心阴极放电离子镀(HCD)技术,在硅基片上沉积CrN薄膜.用X射线衍射技术(XRD)及透射电镜(TEM)分析了氮气分压对沉积的CrN薄膜结构的影响.用电子探针(EPMA)及椭偏仪研究了Cr2N,Cr薄膜在大气环境里不同温度下的抗氧化性能.

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