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专利文摘

姜福昌  
【摘要】:正 含氟单体和它们的制备111:232065 PJpn.Kokai Tokkyo Koho Jp 01,43,845(Asahigl-ass Co.,Ltd.)CF_2:CFO CF_2CF_2(CH_2 CH_2)_n CH:CH_2(I:n=0,1)可用作单体。它的制备是通过 CF_2 XCFYOCF_2-CF_2(CH_2CH_2)_nCH:CH_2(Ⅱ:X,Y=Cl,Br,I)的脱卤反应。例如:Ⅱ(X=Y=氯,n=0)和锌在二(口恶)烷中回流1h 得到70%工(n=0)。还原脱氯制备含氢氟氯链烷111:232067 rKohai Tokkyo Koyo JP 01,149,739,(D

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3 屈创治;天然非离子表面活性剂——茶皂素[N];中国化工报;2000年
4 友良;废家电回收问题应予重视[N];中国国门时报(中国出入境检验疫报);2000年
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7 陈捷;尽显新材料研究实力[N];科技日报;2000年
8 记者 张其瑶;发泡塑料含二恶英?专家认为此说无据![N];科学时报;2000年
9 刘继文 陈思中;华中科大开发出金属纳米制备技术[N];科学时报;2000年
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