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高频低压等离子体浸没离子注入技术研究

田修波  汤宝寅  王小峰  曾照明  
【摘要】:利用低电压注入可以在相同的温度下较传统高压PIII获得更高的注入剂量率,同时在注入脉冲过程中形成较薄的离子阵鞘层,以利于提高注入剂量均匀性。低压与高频注入相配合可获得合适的处理温度和注入剂量率。研究结果表明,经高频低压PIII处理后的SS304样品硬度明显提高;氮元素内扩散可达1.5μm,表面氮浓度接近20%。

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