磁控溅射氧化镓薄膜的制备及紫外探测性能
【摘要】:采用磁控溅射技术在石英衬底上制备氧化镓(Ga_2O_3)薄膜,研究溅射过程中不同氩氧比对薄膜晶体结构、表面形貌、粗糙度、拉曼光谱以及紫外探测性能等的影响。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪和紫外-可见分光光度计等测试仪器对氧化镓薄膜进行表征分析。实验结果表明,氧化镓薄膜呈现β型晶体结构,薄膜表面晶粒尺寸均匀;溅射过程中加入氧气可以有效减少氧化镓薄膜中的氧空位缺陷,适当增大氧氩比可有效提高薄膜质量和薄膜对紫外光的探测能力。
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1 |
韩增虎,胡晓萍,劳技军,李戈扬;Nb-Si-N混合薄膜的HRTEM观察[J];电子显微学报;2002年05期 |
2 |
;薄膜n沟SOIFET断路期间异常电压的过冲[J];微电子学;1994年04期 |
3 |
黄亚洲;刘磊;沙菁;陈云飞;;原子层沉积二硫化钼薄膜的机理及生长薄膜的质量[J];东南大学学报(自然科学版);2017年05期 |
4 |
李靓;姚熹;张良莹;;低介电常数多孔二氧化硅薄膜的制备与性能研究[J];固体电子学研究与进展;2005年04期 |
5 |
贾维国,丁铁柱,郭俊平;SrTi_(1-x)Mg_xO_(3-δ)薄膜的氧敏特性[J];内蒙古大学学报(自然科学版);1999年02期 |
6 |
杨永强;段羽;陈平;赵毅;;低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜[J];发光学报;2014年09期 |
7 |
屈晓声,韦玮,吴洪才;硫化铜薄膜的两次蒸发制备[J];太阳能学报;1998年02期 |
8 |
曲喜新;现代电阻薄膜[J];电子元件与材料;1995年04期 |
9 |
金原粲,王大春;薄膜制作技术的现状[J];压电与声光;1989年01期 |
10 |
李瑞东;邓金祥;张浩;孙俊杰;张杰;张晓霞;庄需芹;;衬底温度对Rubrene:MoO_3混合薄膜性质的影响[J];物理实验;2020年08期 |
11 |
陈瀚;;ZnO薄膜的制备及应用[J];材料开发与应用;2011年04期 |
12 |
李书要;李瑜煜;;p型ZnO薄膜的研究新进展[J];电工材料;2008年02期 |
13 |
王锡铭;张俊英;丛亮;王天民;;厚度与工作温度对TiO_2薄膜气敏性能的影响[J];功能材料;2008年08期 |
14 |
张海燕,陈易明,伍春燕,何艳阳,王金华,朱燕娟;在氩气氛下生长的C_(60)薄膜的结构与特性[J];半导体学报;2001年10期 |
15 |
高淑雅;孔祥朝;张方辉;吕磊;;有机电致发光器件薄膜封装研究进展[J];液晶与显示;2012年02期 |
16 |
章从福;;日本TFT薄膜设备商在深圳建厂[J];半导体信息;2009年05期 |
17 |
孙建诚;孙青;景俊海;傅俊兴;王玉清;;光CVD-SiO_2薄膜的研究[J];西北电讯工程学院学报;1988年01期 |
18 |
陈佾,沈杰,徐伟,严学俭,章壮健,华中一,周峥嵘,陶凤岗;溶胶-凝胶法制备掺氟二氧化硅低介电常数薄膜[J];真空科学与技术;2002年01期 |
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