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无金和掺金Si-SiO_2界面的氧退火特性

李思渊  张同军  王毓珍  李寿嵩  殷之平  
【摘要】:本文从实验上研究了氧退火后无金和掺金两类Si-SiO_2界面表面电荷、界面态以及禁带中态密度分布的热处理变化。考察了金的界面效应的退火行为。还给出了不同温度下干氧氧化所形成的Si-SiO_2界面(包括无金和掺金的)和相同温度下氧退火界面在电性能上的对比结果。

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