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磁约束电感耦合等离子体增强反应溅射沉积nc-TiN/a-Si_3N_4纳米复合薄膜

范秋林  赵红雨  宋力昕  张涛  胡行方  
【摘要】:介绍一种新型磁束缚电感耦合等离子体增强的物理化学气相沉积复合系统,并用该系统通过反应磁控溅射TiSi合金靶,在氩气和氮气等离子体作用下,在单晶硅衬底上制备了nc-TiN/a-Si3N4纳米复合薄膜.扫描电子显微镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱仪和高分辨率透射电子显微镜的分析和观察结果清晰地表明该薄膜是具有纳米结构的复合薄膜,主要由镶嵌在非晶态Si3N4基体中的TiN纳米晶粒组成,TiN晶粒的尺寸约为3nm.

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1 吕景发,殷学谦;低速磁束缚态穿过物质时的能量损耗[J];河北大学学报(自然科学版);1988年02期
2 刘梦林,方家光,郭增,吴振一;超导磁悬浮的物理演示[J];大学物理;1996年02期
3 范秋林,赵红雨,宋力昕,张涛,胡行方;磁约束电感耦合等离子体增强反应溅射沉积nc-TiN/a-Si_3N_4纳米复合薄膜[J];无机材料学报;2004年05期
4 范秋林,赵红雨,宋力昕,张涛,胡行方;磁约束电感耦合等离子体增强反应溅射沉积nc-TiN/a-Si_3N_4纳米复合薄膜[J];无机材料学报;2004年05期
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