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二维变线距光栅密度的检测

王铷  唐欣  叶超  何世平  付绍军  
【摘要】:变线距全息光栅平面单色仪由于具有自动聚焦、消像差、高分辨率以及减少杂散光等能力,因而在同步辐射装置、激光核聚变装置以及太空望远镜等设备中有着重要的应用。由于变线距全息光栅的制作及检测存在着相当的难度,制约了变线距全息光栅的推广应用。因此,变线距全息光栅的制作及检测研究,具有十分重要的理论及应用意义。变线距全息光栅的制作必须有高精度的密度检测技术相配合。比如,在变线距全息光栅的制作过程中,需要对用于形成变线距光栅的全息干涉条纹的线密度进行检测;对于已经制成的变线距全息光栅的线密度也需要进行检测,以检查光栅的制作质量。因此,变线距全息光栅线密度的检测,对提高变线距全息光栅的制作质量起着十分关键的作用。文中给出了二维变线距光栅的密度描述公式,讨论了干涉条纹的物理意义;应用干涉云纹法和条纹图像处理技术,对二维变线距光栅的密度分布进行了检测研究,给出了光栅密度的全场分布,并讨论了检测精度。

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