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0.87Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3-0.13PbTiO_3薄膜的MOSD+Dipping制备

王卓  杨长红  王民  房昌水  
【摘要】:采用MOSD+Dipping方法在P型Si(111)衬底上制备了0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜。用X射线衍射技术研究了薄膜的结构和结晶性。用原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌。同时还研究了薄膜的存储性能。

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