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离子束溅射沉积类金刚石薄膜

丁正明  张志明  许欢南  
【摘要】:正 类金刚石薄膜已进入实用开发阶段。现通过离子束溅射技术,以氩、氢为混合气体,在硅片与玻片上间接式沉积类金刚石薄膜。用 X 射线光电子能谱及激光喇谱分析,确定其为金刚石微晶与石墨等碳的混合结构组成光亮致密的类金刚石膜。实验证明,束流与膜生长几成正比关系;束能与膜生长有最佳值,认为这是膜的沉积和再溅射二者竞争的结果。薄膜具有

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