设备新闻

【摘要】：正本机是坎布里奇公司研制的最新电子束曝光设备,可用来制作掩模原版或在硅片上直接扫描。该机具有如下特性: 对位精度:±0.15μm(2σ); 套刻精度:±0.25μm(±2σ);

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前20条

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