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平面变线密度光栅的制作和波前检测

朱向冰  陈瑾  邓善熙  付绍军  
【摘要】:为了制作平面变线密度光栅,满足线密度变化的要求,采用两个点光源和辅助透镜对基底曝光。编写了第一代和第二代光路的计算程序,计算出拍摄光路的几何位置参量,依据实际情况选择光路。提出了在线检测波前的方法,将辅助的标准光栅放在基底的位置上,入射光被标准光栅衍射,衍射光在光栅表面的干涉条纹反映了入射光的波前分布。采用数码相机和辅助镜拍摄干涉条纹,编写条纹分析程序,根据条纹调节元件的位置,直到入射波前满足要求后,对涂有光刻胶的基底曝光,制作出了原型的变线密度光栅。波前检测方法也可以用于其他全息光栅的制作中。

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