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氧化钒薄膜的制备及其光电特性研究

王宏臣  易新建  陈四海  黄光  李雄伟  
【摘要】:采用一种新工艺在Si和Si3 N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜 ,并对其微观结构和光电特性进行了研究。测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到 3个数量级 ,红外透过率在相变前后改变达到 6 0 %。

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