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离焦激光直写光刻工艺研究

李凤友  卢振武  谢永军  张殿文  裴苏  赵晶丽  
【摘要】:采用理论计算和光线追迹分析了激光直写光刻中离焦对写入焦斑光场分布的影响;使用四轴激光直写设备开展了离焦激光直写光刻工艺实验,实验和理论计算及光线追迹的结果吻合得很好。利用离焦激光直写光刻方法制作了光栅和分划版,测得实验结果达到工艺要求。

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