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原子层沉积薄膜之激光损伤性能分析

卫耀伟  陈松林  刘志超  马平  许乔  
【摘要】:采用目前尚在国内鲜有报道的原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2单层膜、Al2O3单层膜以及TiO2/Al2O3增透膜,沉积温度在110℃和280℃。利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值的测量。采用Nomarski微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析。结果表明,采用原子层沉积技术镀制的膜层厚度均匀性较好,本实验中采用50mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1064nm处的透过率大于99.8%;沉积温度影响着膜层的沉积速率、膜层微观结构,进而影响着膜层的抗激光损伤阈值。其中,熔石英和BK7基片上TiO2/Al2O3薄膜激光损伤阈值在110℃时分别为6.73±0.47J/cm2和6.5±0.46J/cm2,明显高于其在280℃时的损伤阈值。

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