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ZnS/MgF_2窄带干涉滤光片的稳定性

严嵋  
【摘要】:正 众所周知,用真空蒸镀法制得的窄带介质干涉滤光片,由于其膜层结构的不可逆变化,以及环境大气中的潮汽充填入膜层,滤光片的光学特性会发生改变。以前曾指出过,在真空中用电子束蒸镀SiO_2,ZrO_2或HfO_2制成的窄带介质干涉滤光片,若采用熔封保护玻璃的方法将其密封起来,则滤光片的光学特性可以做到完全稳定。对于真空热蒸发镀制的ZnS/MgF_2窄带干涉滤光片,用上述方法稳定其光学性能,也有很大的实用意义。因为它们的镀制过程用很简单的真空镀膜设备就能实现,所以这类滤光片具有更广泛的工艺性。此外,由于这两种膜料的折射率相差比较大(对于ZnS/MgF_2为2.3/1.38;对于ZrO_2/SiO_2为1.9/1.45),所以,这类滤光片可以有更优良的光学性能。既然目前还没有关于这类滤光片在空气中加温到200℃以上时它们的性质的报导,所以有必要研究直至500℃的加温对滤光片光学性质的影响。500℃是封接保护玻璃所需要的温度。

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