收藏本站
收藏 | 投稿 | 论文排版

计算光刻研究及进展

马旭  张胜恩  潘毅华  张钧碧  余成臻  董立松  韦亚一  
【摘要】:光刻是将集成电路器件的结构图形从掩模转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程,是实现高端芯片量产的关键技术。在摩尔定律的推动下,光刻技术跨越了90~7 nm及以下的多个工艺节点,逐步逼近其分辨率的物理极限。同时,光刻系统的衍射受限特性,以及各类系统像差、误差和工艺偏差,都会严重影响光刻成像精度。此时,必须采用计算光刻技术来提高光刻成像分辨率和图形保真度。计算光刻是涉及光学、半导体技术、计算科学、图像与信号处理、材料科学、信息学等多个专业的交叉研究领域。它以光学成像和工艺建模为基础,采用数学方法对光刻成像过程进行全链路的仿真与优化,实现成像误差的高精度补偿,能够有效提升工艺窗口和芯片制造良率,降低光刻工艺的研发周期与成本,目前已成为高端芯片制程的核心环节之一。本文首先简单介绍了计算光刻的前身,即传统的分辨率增强技术,在此基础上介绍了计算光刻的基本原理、模型和算法。之后对光学邻近效应校正、光源优化和光源掩模联合优化三种常用的计算光刻技术进行了综述,总结了相关的研究进展、成果和应用。最后,阐述了计算光刻当前所面临的需求与挑战,并讨论了最新技术进展和未来发展方向。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前19条
1 冯伯儒,张锦,侯德胜,周崇喜,陈芬;衰减相移掩模光刻技术研究[J];光电工程;1999年05期
2 翁寿松,缪彩琴;无掩模光刻技术的前景[J];电子工业专用设备;2005年08期
3 ;制版、光刻、腐蚀与掩模工艺[J];电子科技文摘;1999年12期
4 莫大康;无掩模光刻技术的最新进展[J];电子工业专用设备;2005年02期
5 马延琴;杜惊雷;;基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展[J];激光与光电子学进展;2012年07期
6 蒋文波;胡松;;无掩模光刻技术研究[J];微细加工技术;2008年04期
7 袁淼;孙义钰;李艳秋;;先进计算光刻[J];激光与光电子学进展;2022年09期
8 陈文辉;何建芳;董立松;韦亚一;;光源掩模协同优化的原理与应用[J];半导体技术;2017年09期
9 江东;;照相掩模制造中的光刻[J];微电子学;1972年Z1期
10 孙再吉;开发变形照明和移相掩模结合的新光刻技术[J];固体电子学研究与进展;1993年01期
11 冯伯儒,孙国良,沈锋,阙珑,陈宝钦,崔铮;微光刻相移掩模技术研究[J];光电工程;1996年S1期
12 谢常青,叶甜春;193nm光学掩模与x射线掩模技术比较[J];半导体情报;1999年02期
13 ;制版、光刻、腐蚀与掩模工艺[J];电子科技文摘;2002年08期
14 游树达;超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术[J];微处理机;1996年01期
15 谢常青,叶甜春,陈梦真;193nm与x射线光刻技术比较[J];半导体技术;1998年04期
16 科兵;;透明掩模工艺[J];半导体情报;1973年02期
17 刘恩荣;日本的移相光刻技术开发战略[J];电子工业专用设备;1992年01期
18 廖陆峰;李思坤;张子南;王向朝;;光源掩模联合优化技术研究[J];激光与光电子学进展;2022年09期
19 顾宁,沈浩瀛,张海黔,韦钰,田扬超,胡一贯,阚娅;基于薄片云母载基的X线掩模版的研制[J];微细加工技术;1998年02期
中国重要会议论文全文数据库 前20条
1 梅文辉;;无掩模数字光刻技术中的点阵列曝光技术[A];“广东省光学学会2013年学术交流大会”暨“粤港台光学界产学研合作交流大会”会议手册论文集[C];2013年
2 张恒;王向朝;李思坤;;基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法[A];第十六届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2016年
3 王丽萍;;极紫外反射式掩模白板位相缺陷检验研究[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
4 周烽;王丽萍;;高精度掩模定位测量塔研制[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
5 成维;李思坤;王向朝;张恒;孟泽江;;基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷形貌检测方法[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
6 沈绍群;杨恒;尹颢;鲍敏杭;;“无掩模”腐蚀技术与硅多层微机械结构[A];2000全国力学量传感器及测试、计量学术交流会论文集[C];2000年
7 罗宁宁;高益庆;;多方向数字移动掩模技术制作连续微结构[A];第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集[C];2014年
8 崔晓峰;高益庆;况国文;李凤;;基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作[A];第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集[C];2014年
9 张恒;李思坤;王向朝;;基于机器学习参数校正的极紫外光刻三维含缺陷掩模仿真方法[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
10 高益庆;金麒;罗宁宁;;衍射微透镜数字旋转掩模技术的研究[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
11 廖陆峰;李思坤;王向朝;;光刻掩模图形筛选技术研究[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
12 温尚明;;21世纪微电子光刻技术与设备的发展对策研究[A];西部大开发 科教先行与可持续发展——中国科协2000年学术年会文集[C];2000年
13 丁玉成;刘红忠;卢秉恒;李涤尘;;下一代光刻技术——压印光刻[A];人才、创新与老工业基地的振兴——2004年中国机械工程学会年会论文集[C];2004年
14 杨朝兴;王向朝;李思坤;;基于浮点数编码遗传算法的光源掩模优化方法[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
15 曹宇婷;王向朝;彭勃;;基于EUV光刻掩模简化模型的掩模衍射分析[A];第十三届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2010年
16 范细秋;张鸿海;汪学方;贾可;刘胜;;纳米压印光刻技术[A];2004全国光学与光电子学学术研讨会、2005全国光学与光电子学学术研讨会、广西光学学会成立20周年年会论文集[C];2005年
17 董亭亭;付跃刚;张磊;陈驰;;激光干涉光刻技术制造的高斯形蛾眼抗反射微结构元件的形状误差研究[A];国防光电子论坛微波光子学技术及应用研讨会论文集[C];2015年
18 黄国胜;李艳秋;;掩模台和承片台的运动标准偏差对ArF光学成像质量的影响[A];大珩先生九十华诞文集暨中国光学学会2004年学术大会论文集[C];2004年
19 赵永蓬;徐强;李琦;王骐;;极紫外光刻光源关键技术研究[A];豫赣黑苏鲁五省光学(激光)学会联合学术2012年会论文摘要集[C];2012年
20 相艳荣;孙伟民;赵磊;姜富强;;相位掩模法制作光纤光栅的近场理论分析与实验[A];江苏、山东、河南、江西、黑龙江五省光学(激光)联合学术'05年会论文集[C];2005年
中国博士学位论文全文数据库 前15条
1 吕稳;基于像素表征的光刻掩模优化方法研究[D];华中科技大学;2015年
2 刘利芹;用于纳米结构功能器件的表面等离子体光刻技术研究[D];中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所);2018年
3 时招军;数字光刻成像算法及其掩模优化方法研究[D];南京航空航天大学;2013年
4 刘民哲;静电场辅助的压印光刻技术及其应用研究[D];中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;2017年
5 杨帆;基于表面等离子干涉原理的周期减小光刻技术研究[D];哈尔滨工业大学;2016年
6 张登英;毛细力光刻技术及其应用研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2013年
7 李凤有;激光直写光刻技术研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2002年
8 耿臻;纳米级集成电路计算光刻技术研究[D];浙江大学;2015年
9 杨祎巍;纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究[D];浙江大学;2010年
10 郭学佳;高数值孔径光刻中偏振效应及图形保真技术研究[D];北京理工大学;2014年
11 吴皓;DMD投影光刻系统的开发设计及其在光刻、液晶光控取向方面的应用[D];南京大学;2012年
12 刘明刚;表面等离子体超分辨光刻装置关键技术研究[D];中国科学院光电技术研究所;2017年
13 陆冰睿;纳米光刻技术在纳米光子晶体、超材料和生物学中的应用[D];复旦大学;2010年
14 周新江;基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究[D];华中科技大学;2015年
15 吴娜;全息光栅掩模图形转移理论模型及新工艺研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2013年
中国硕士学位论文全文数据库 前20条
1 陈譞博;采用梯度算法的极紫外光刻光源—掩模优化方法研究[D];北京理工大学;2015年
2 饶玉芳;无掩模光刻系统的研究与设计[D];南昌航空大学;2010年
3 武洋;无掩模光刻技术及其曝光方案研究[D];西安电子科技大学;2017年
4 赵圣哲;无掩模光刻系统研究[D];长春理工大学;2010年
5 刘馨泽;极紫外光刻掩模白板检测系统关键技术研究[D];长春理工大学;2021年
6 郝芸芸;浸没式光刻中厚掩模类偏振像差的研究[D];北京理工大学;2017年
7 焦志杰;基于生成模型的掩模近场计算[D];广东工业大学;2022年
8 石淼;一种永磁弹射掩模台的轨迹规划和运动控制研究[D];电子科技大学;2016年
9 吴小飞;部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究[D];华中科技大学;2012年
10 吴志会;光刻机掩模台动力学建模与分析[D];华中科技大学;2012年
11 陆毅华;基于显微视觉导向的光掩模特征尺寸的精密测量与研究[D];华南理工大学;2010年
12 夏小斌;取样光栅制作过程中的铬掩模占宽比测量技术研究[D];苏州大学;2012年
13 林灿发;光刻机掩模台运动控制器设计[D];哈尔滨工业大学;2013年
14 刘佳;光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析[D];兰州大学;2008年
15 孙彦杰;基于DMD扫描光刻系统的光刻图形边缘平滑度优化研究[D];东北师范大学;2019年
16 陈荣环;基于DMD的扫描光刻系统图案生成质量优化方案的研究[D];东北师范大学;2018年
17 王冠亚;高精度掩模版电子束光刻关键技术研究[D];中国科学院大学(工程管理与信息技术学院);2013年
18 陈明辉;同质掩模法制作闪耀光栅研究[D];苏州大学;2012年
19 姜旭;基于DMD的大面积PCB曝光性能优化的研究[D];长春理工大学;2021年
20 张思琪;数字无掩模光刻系统曝光光源的光路设计与实现[D];电子科技大学;2022年
中国重要报纸全文数据库 前12条
1 本报记者 冯晓伟;掩模版:产业链合作图共赢 打破垄断盼扶持[N];中国电子报;2009年
2 ;面板厂注资掩模版企业可实现共赢[N];中国电子报;2009年
3 杨春;台积电计划发展EUV光刻技术 技术和成本仍是最大障碍[N];电子资讯时报;2008年
4 彭丽;我国纳米光刻技术研究取得突破[N];科学时报;2011年
5 冯卫东;美推出软干涉光刻技术[N];科技日报;2007年
6 记者 刘志达;清华与荷兰ASML合作研究光刻技术[N];光明日报;2002年
7 沈建苗 编译;下一代光刻技术面临难题[N];计算机世界;2007年
8 ;光刻技术实现20纳米刻制工艺突破[N];中国计算机报;2003年
9 郭长佑;Structured ASIC技术发展观察[N];电子资讯时报;2007年
10 本报记者 张蕴;给摩尔定律续命 EUV光刻暂难当大任[N];科技日报;2019年
11 王忠良 记者 丁秀玉;我首台自主知识产权光掩模工艺设备诞生[N];科技日报;2008年
12 ;未来几年的关键技术[N];中国计算机报;2001年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978