PZT/Si异质结的电特性研究
【摘要】:采用Sol/Gel工艺制备PZT/Si结构,从该结构的极化特性、开关特性和I-V特性等方面研究了硅衬底上铁电薄膜的自偏压异质结特性.并以这种效应分析了FRAM电容中铁电薄膜的疲劳机制.
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