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用低压反应离子镀技术制备的类金刚石薄膜及其表征

单兆会  高劲松  王彤彤  申振峰  陈红  
【摘要】:以Ar气作为工作气体,CH_4作为反应气体,利用低压反应离子镀(RLVIP)技术在Ge基底上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜。通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP型纳米压痕硬度测试计分别表征了类金刚石薄膜的微观结构、光学性能和机械性能。结果表明,类金刚石薄膜(I_D/I_G=0.918)具有较高的sp~3键含量,其硬度值达到28.6GPa,弹性模量为199.5GPa;单层膜系在8~11.5μm波段的峰值透过率为63.6%,平均透过率为62%。

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