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金刚石膜的高温氧化性能的研究

胡继忠  郝国栋  郭美玲  
【摘要】:在CH4/H2气氛下,利用直流热阴极PCVD(Plasma chemical vapor deposition)设备制备的金刚石膜并研究其高温氧化行为。对制备的样品通过拉曼光谱仪、X射线衍射仪对其进行表征,结果表明:金刚石膜在空气中氧化优先刻蚀非晶碳石墨处,使晶界瓦解;金刚石膜氧化前后未出现石墨或其它中间产物。

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