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等离子体浸没离子注入绝缘材料的研究

田修波  杨士勤  Ricky K Y Fu  Paul K Chu  
【摘要】:等离子体浸没离子注入是一种新形式的离子注入技术,是利用负偏压工件周围形成的等离子体鞘层进行离子加速、进而获得离子注入。等离子体注入的前提条件是工件导电,因此对于绝缘材料的等离子体注入可能存在问题。本文从理论和实际处理的角度论证了绝缘材料等离子体注入的可能性、可操作性,并给出了一些实际例证。

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