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噻吩修饰的新型并五苯衍生物的合成及其光谱性能

王静  刘珂  
【摘要】：通过在并五苯的6-位和13-位引入寡聚噻吩取代基,成功地合成了三个噻吩修饰的并五苯衍生物(1a～1c),其结构经NMR,IR,MS和元素分析表征,其中1b和1c未见文献报道。并研究了1的甲苯溶液和固体薄膜的UV性能。

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