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铬-镧镀层的制备及其光谱性能

刘小珍  王刚  宋玲玲  李昕  朱旭倩  
【摘要】:用电沉积法分别采用直流电源和脉冲电源制备铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)。分别用发射光谱法、X衍射法、能谱法和扫描电镜法等对镀层进行表征。铬-镧镀层(dc)为非晶态镀层,铬-镧镀层(pulse)中含有晶态的镧和碳化铬。铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的硬度分别为860.3和930.2 HV,比铬镀层的硬度(774.0 HV)分别提高了11.15%和20.18%;铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的磨损质量是铬镀层的磨损质量的1/1.29和1/2.25。铬镀层、铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的磨擦系数分别为0.884,0.640和0.648。采用脉冲电源,可提高镀层的耐磨性和硬度,铬-镧镀层(pulse)的磨损质量是铬-镧镀层(dc)的磨损质量的1/1.75,铬-镧镀层(pulse)的硬度比铬-镧镀层(dc)的硬度提高了8.13%。

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