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共插层剂改性蒙脱土制备尼龙1010/蒙脱土纳米复合材料

何素芹  杜萍  朱诚身  康鑫  
【摘要】:以间甲酚(MC)、尼龙66盐(NS)分别与十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)共插层改性蒙脱土,制备了尼龙1010/蒙脱土纳米复合材料。TG和WAXD实验结果表明,采用共插层剂改性的蒙脱土的片层间距显著增大,且热分解温度较高;蒙脱土的引入改善了尼龙1010的拉伸性能、弯曲性能和热变形温度,冲击韧性基本保持;蒙脱土的加入可能改变了尼龙1010的结晶结构,且使尼龙1010的结晶温度升高。共插层剂两组分所起的作用不同,CTAB的插入有利于蒙脱土片层间距的扩开,MC和NS则起到了界面相容剂的作用,有利于基体树脂与蒙脱土片层的复合。

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