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离子注入硅Nd-YAG连续激光退火

邹世昌  B.I.Deutch  柳襄怀  陈朝荣  林成鲁  吴恒显  陆世桢  沈振东  
【摘要】:本文报导用扫描Nd-YAG连续激光对100硅中注铋的损伤层进行的退火研究。测量表明:退火能使离子注入造成的晶格损伤很好恢复,90%以上的铋原子处于替代位置,杂质浓度的分布保持不变。文中对退火参数的选择、均匀性,以及表面温度升高、外延再生长层厚度等问题进行了讨论。文末还将实验结果与熔化型脉冲激光退火进行了比较。

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