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磁控溅射薄膜厚度分布模拟软件的编制

黄继颇  孙承永  
【摘要】:对平面磁控溅射薄膜厚度分布提出了一种理论计算模型,编制了磁控溅射薄膜厚度分布模拟软件系统MFTDS,并用MFTDS对半球壳形工件内外膜厚分布进行了计算机模拟,在受磁控靶溅蚀区不均匀性影响较小的部位,所得膜厚分布结果与实验数据基本吻合

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