收藏本站
收藏 | 投稿 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

掩模可制造性规则检查的研究

魏晓群  谢旦艳  华卫群  
【摘要】:掩模可制造性规则检查(Manufacturing Rule Check, MRC)指在完成掩模数据处理后对最终制版图形进行一次规则检查,按设定的制造规则抓出不符合制造规范的图形。数据处理人员需要对抓出的图形进行人工筛选后告知客户。通常由于抓取出的图形种类多、数量多,MRC运行与人工筛选会花费大量时间。对可制造性规则检查的参数设置进行研究,通过参数设置的变化对MRC图形抓取和运行时间的影响进行比较试验,验证了可以利用参数设置减少MRC运行时间与抓取图形的数量。并且通过对加完修正参数之后图形效果的实验研究,验证毛刺等MRC图形在版上未产生实际图形效果,可以忽略。最终达到MRC检查运行与筛选整体时效性的提升。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前17条
1 李峥;程秀兰;黄荣瑞;;一种新颖的光罩可制造性规则检查方法与系统[J];半导体技术;2007年03期
2 陈正浩;;电子装联技术论坛板级电路可制造性分析及虚拟设计技术(待续)[J];电子工艺技术;2007年01期
3 胜庚义;T-材料可制造性能指南——第二部分:Thermagon T-Lam材料可制造性能设计准则[J];印制电路信息;2002年05期
4 陈正浩;;电子装联技术论坛 板级电路可制造性分析及虚拟设计技术(续完)[J];电子工艺技术;2007年02期
5 龚永林;;文献摘要(215)[J];印制电路信息;2019年12期
6 莫剑冬;王召利;范文晶;;可制造性分析技术在PCB设计中的应用[J];电子质量;2015年10期
7 冯伯儒,张锦,陈宝钦,侯德胜,苏平;亚分辨图形相移掩模的制作方法[J];微细加工技术;2001年02期
8 王家楫;掩模版形变对图形精度的影响[J];半导体技术;1988年03期
9 Joe Shiefman ,黄印权;掩模测量[J];电子工业专用设备;1989年01期
10 束名扬;周文;陈栋豪;;掩模版复印工艺图形畸变分析与改进[J];半导体光电;2020年05期
11 杨长华;;光掩模缺陷修补技术[J];集成电路应用;2021年04期
12 陆晶,陈宝钦,刘明,王云翔,龙世兵,李泠;100nm分辨率的移相掩模技术[J];微细加工技术;2003年04期
13 李昕欣,杨恒,沈绍群,鲍敏杭;形成硅多层微机械结构的“掩模-无掩模”腐蚀新技术[J];半导体学报;1997年12期
14 徐择典;日本真空技术公司氧化铬透明掩模资料[J];微电子学;1975年S1期
15 中田;富紘;喻德政;;掩模检查设备[J];半导体设备;1984年02期
16 张萌;;掩模版表面灰尘检查设备的优化[J];信息记录材料;2020年03期
17 张鹏;丁晗;沈天翊;胡超;;基于RFID的数字化掩模制造[J];电子与封装;2017年08期
中国重要会议论文全文数据库 前20条
1 王丽萍;;极紫外反射式掩模白板位相缺陷检验研究[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
2 周烽;王丽萍;;高精度掩模定位测量塔研制[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
3 廖陆峰;李思坤;王向朝;;光刻掩模图形筛选技术研究[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
4 张恒;王向朝;李思坤;;基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法[A];第十六届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2016年
5 沈绍群;杨恒;尹颢;鲍敏杭;;“无掩模”腐蚀技术与硅多层微机械结构[A];2000全国力学量传感器及测试、计量学术交流会论文集[C];2000年
6 罗宁宁;高益庆;;多方向数字移动掩模技术制作连续微结构[A];第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集[C];2014年
7 崔晓峰;高益庆;况国文;李凤;;基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作[A];第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集[C];2014年
8 张恒;李思坤;王向朝;;基于机器学习参数校正的极紫外光刻三维含缺陷掩模仿真方法[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
9 高益庆;金麒;罗宁宁;;衍射微透镜数字旋转掩模技术的研究[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
10 成维;李思坤;王向朝;张恒;孟泽江;;基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷形貌检测方法[A];第十七届全国光学测试学术交流会摘要集[C];2018年
11 贾变芬;沈钢;黄爱秀;;VALOR Trilogy5000 DFM软件在PCB设计中的应用[A];四川省电子学会生产技术专委会先进制造技术成果交流会论文集[C];2005年
12 曹宇婷;王向朝;彭勃;;基于EUV光刻掩模简化模型的掩模衍射分析[A];第十三届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2010年
13 杨朝兴;王向朝;李思坤;;基于浮点数编码遗传算法的光源掩模优化方法[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)[C];2012年
14 黄国胜;李艳秋;;掩模台和承片台的运动标准偏差对ArF光学成像质量的影响[A];大珩先生九十华诞文集暨中国光学学会2004年学术大会论文集[C];2004年
15 相艳荣;孙伟民;赵磊;姜富强;;相位掩模法制作光纤光栅的近场理论分析与实验[A];江苏、山东、河南、江西、黑龙江五省光学(激光)联合学术'05年会论文集[C];2005年
16 李亮;;CAM350软件在PCB制造中的应用[A];第二届全国青年印制电路学术年会论文汇编[C];2002年
17 杨朝兴;李思坤;王向朝;;基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法[A];第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集[C];2014年
18 刘江峰;包良满;李晓林;;高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步[A];2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会2008年全国高能束加工技术研讨会、北京电机工程学会第十届粒子加速器学术交流会论文集[C];2008年
19 宋振国;王斌;曹乾涛;胡莹璐;宋志明;;微波混合电路制作中掩模电镀金镀层均匀性的研究[A];2013年全国微波毫米波会议论文集[C];2013年
20 刘全;吴建宏;陈刚;方玲玲;;用于制作光纤光栅相位掩模的衍射特性分析[A];全国第十二次光纤通信暨第十三届集成光学学术会议论文集[C];2005年
中国博士学位论文全文数据库 前3条
1 吕稳;基于像素表征的光刻掩模优化方法研究[D];华中科技大学;2015年
2 时招军;数字光刻成像算法及其掩模优化方法研究[D];南京航空航天大学;2013年
3 吴娜;全息光栅掩模图形转移理论模型及新工艺研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2013年
中国硕士学位论文全文数据库 前20条
1 高根生;超深亚微米集成电路可制造性验证与设计技术研究[D];浙江大学;2004年
2 吴小飞;部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究[D];华中科技大学;2012年
3 郝芸芸;浸没式光刻中厚掩模类偏振像差的研究[D];北京理工大学;2017年
4 石淼;一种永磁弹射掩模台的轨迹规划和运动控制研究[D];电子科技大学;2016年
5 吴志会;光刻机掩模台动力学建模与分析[D];华中科技大学;2012年
6 陆毅华;基于显微视觉导向的光掩模特征尺寸的精密测量与研究[D];华南理工大学;2010年
7 饶玉芳;无掩模光刻系统的研究与设计[D];南昌航空大学;2010年
8 赵圣哲;无掩模光刻系统研究[D];长春理工大学;2010年
9 陈譞博;采用梯度算法的极紫外光刻光源—掩模优化方法研究[D];北京理工大学;2015年
10 夏小斌;取样光栅制作过程中的铬掩模占宽比测量技术研究[D];苏州大学;2012年
11 林灿发;光刻机掩模台运动控制器设计[D];哈尔滨工业大学;2013年
12 刘佳;光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析[D];兰州大学;2008年
13 刘斌;PCB板级电路可制造性研究[D];西安电子科技大学;2006年
14 王冠亚;高精度掩模版电子束光刻关键技术研究[D];中国科学院大学(工程管理与信息技术学院);2013年
15 陈明辉;同质掩模法制作闪耀光栅研究[D];苏州大学;2012年
16 伍景军;高性能抗反射微纳结构的自掩模生成机理研究[D];西南科技大学;2018年
17 潘昌瑞;光刻机掩模台六自由度解耦仿真及宏动轨迹规划[D];哈尔滨工业大学;2014年
18 黄河;激光化学气相沉积光掩模版修复系统的研究[D];华中科技大学;2006年
19 黄惠萍;交替移相掩模技术的版图优化方法研究[D];复旦大学;2008年
20 杜欣荣;基于DMD的数字无掩模光刻成像系统设计[D];西安理工大学;2008年
中国重要报纸全文数据库 前10条
1 浙江大学超大规模IC设计研 究所 史峥 沈珊瑚 严晓浪;来自亚100纳米可制造性的挑战[N];计算机世界;2005年
2 深圳清溢光电股份有限公司常务副总经理 张沛;提升产业链竞争力 中国掩模版迈向高世代[N];中国电子报;2009年
3 本报记者 冯晓伟;掩模版:产业链合作图共赢 打破垄断盼扶持[N];中国电子报;2009年
4 冯晓伟;Toppan:将向中国市场推出0.18微米光掩模[N];中国电子报;2008年
5 ;面板厂注资掩模版企业可实现共赢[N];中国电子报;2009年
6 郭长佑;Structured ASIC技术发展观察[N];电子资讯时报;2007年
7 诗文;翔准推出90纳米掩模技术[N];电子资讯时报;2002年
8 王忠良 记者 丁秀玉;我首台自主知识产权光掩模工艺设备诞生[N];科技日报;2008年
9 施伟杰 韦亚一 周玉梅;高端芯片制造工艺中的EDA工具——计算光刻(四)[N];电子报;2020年
10 碧海永乐净化科技有限公司总经理 夏明宝;掩模版制造考验中国洁净室设计建造水平[N];中国电子报;2009年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978