电压对TC4合金K_2ZrF_6–Na_2SiO_3–(NaPO_3)_6体系微弧氧化膜性能的影响

【摘要】：在K_2ZrF_6–Na_2SiO_3–(NaPO_3)_6电解液中研究了电压(420～510 V)对TC4合金表面微弧氧化(MAO)的影响。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)及拉伸试验机表征了膜层的微观形貌、相组织、元素组成和结合强度,用傅里叶变换红外光谱仪(FT–IR)测试了它们的红外发射率。结果表明:随着电压的升高,膜层厚度、粗糙度和结合强度均增大;膜层的主要相组成为TiO_2,Si、Zr、P元素分别以SiO_2、ZrO_2、NaH_2PO_4与Na_4P-2O_7的形式存在。膜层的红外发射率随电压增大而先升高后降低,在电压为480 V时达到最大值0.87,比420 V下所得膜层的红外发射率提高了7.4%。