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硅KOH腐蚀<100>晶向凸角补偿技术及应用

王浙辉  李昕欣  王跃林  
【摘要】:在(100)硅上制作边沿100晶向的长方形掩模,用KOH各向异性腐蚀液腐蚀可制得竖直微镜,这种微镜存在凸角削角问题。研究了边沿100晶向掩模的凸角补偿技术,提出了2种凸角补偿图形,并应用于竖直微镜制作。实验表明“工”形补偿可获得方正的反射面;“Y”形补偿的微镜,反射面呈底角为75.96°的梯形。经补偿后的微镜,可提高光开关切换光束效率。讨论了(100)硅的100晶向掩模凸角补偿技术应用于微机械加速度计质量块制作的可能性。

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