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Ti离子注入对石英玻璃表面金属化的影响

崔新强  李海兵  李国卿  蒋宝财  
【摘要】:为提高石英玻璃表面金属化膜层与基底的结合强度,利用金属蒸发真空弧(MEVVA)离子源引出的Ti离子对石英玻璃及镀Ti膜石英玻璃进行离子注入,剂量选择3×1016,5×1016ion/cm2,模拟分析了注入离子能量的分布,采用卢瑟福背散射分析了注入Ti离子在基体中的深度分布,利用划痕实验机对比了镀Ti膜石英玻璃经Ti离子注入前后的膜基结合强度。实验结果表明:石英玻璃经Ti离子(5×1016ion/cm2)注入后,钛在基体中呈高斯分布,最大浓度分布在15~35 nm范围内;镀Ti膜石英玻璃经Ti离子(5×1016ion/cm2)注入后,最大浓度分布在5~15 nm范围内,注入离子穿透薄膜进入基材内部。Ti离子注入剂量为5×1016ion/cm2时,膜基的结合强度比未注入样品提高了90%。

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