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硅中氦离子注入所产生的微孔结构的吸杂作用

闵靖  朱剑豪  吕翔  
【摘要】:高剂量氦离子注入和退火在硅中形成了氦微气泡(bubble)和微孔(cavity).我们用剖面透射电镜显示了微孔的形貌.二次离子质谱和卢瑟福背散射测试表明氦注入引起的微孔层对铜和金有明显的吸杂作用,且在1200℃高温下吸杂仍具有稳定性.我们还与带氧沉淀的样品作了吸杂效果的比较.

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