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微电子工艺CAD系统SUPREM-Ⅱ的模拟精度

李惠军  刘晓建  
【摘要】:模拟精度是CAD系统设计者首先考虑的问题。文中向读者提供了在SUPREM-Ⅱ模拟系统中,提高模拟精度的较科学的实验方法。

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2 沈燕辉 ,魏同立;高温热氧化工艺的统计模拟[J];电子器件;1989年Z1期
3 李惠军, 刘晓建;微电子工艺CAD系统SUPREM-Ⅱ的模拟精度[J];半导体技术;1994年06期
4 李惠军, 陈勇;微电子工艺CAD系统SUPREM-Ⅱ所提供的信息量[J];半导体技术;1995年02期
5 李惠军,刘晓健;集成运放纵向NPN-PC-SUPREM全参数模拟输入解析[J];半导体技术;1995年04期
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