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《西北师范大学学报(自然科学版)》 2012年06期
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TiO_2缓冲层的退火气氛对ZnO薄膜微结构和光学性能的影响

马书懿  张小雷  杨付超  黄新丽  马李刚  李发明  赵强  刘静  
【摘要】:采用射频磁控溅射法制备了ZnO/TiO2/Si薄膜,研究了TiO2缓冲层的不同退火气氛对ZnO薄膜的影响.利用X射线衍射分析(XRD)、紫外-可见分光光度计和荧光分光光度计等技术表征了ZnO/TiO2/Si薄膜的微结构和光学特性.XRD结果表明:沉积在经过O2退火缓冲层上的ZnO薄膜具有最好的c轴择优取向;透射吸收谱显示所有ZnO薄膜在可见光区域的平均透过率超过90%;引入未退火缓冲层后薄膜的光学带隙值增大,而缓冲层在真空、氧气进行退火后薄膜的光学带隙值均减小.薄膜的光致发光谱显示:所有样品出现了位于400nm,450nm和530nm的紫光峰、蓝光峰和绿光峰,并对各发光峰的来源进行了探讨.

【参考文献】
中国期刊全文数据库 前6条
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【二级参考文献】
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【相似文献】
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