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《原子核物理评论》 2019年03期
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电离总剂量对纳米SRAM器件单粒子翻转敏感性的影响

姬庆刚  刘杰  李东青  刘天奇  叶兵  赵培雄  孙友梅  陆妩  郑齐文  
【摘要】:电离总剂量(TID)与单粒子效应(SEE)是纳米SRAM器件在航天应用中的主要威胁。随着CMOS工艺的进步,两种辐射效应在纳米SRAM器件中的协同效应出现了一些新现象,有必要进一步开展深入研究。利用γ射线以及不同种类重离子对两款纳米SRAM器件开展了辐照实验,研究了不同辐照参数、测试模式以及数据图形条件下,电离总剂量对单粒子翻转(SEU)敏感性的影响。研究结果表明,γ射线辐照过后,存储单元中反相器开关阈值减小,漏电流增大,导致SRAM存储单元抗翻转能力降低,SEU截面有明显增大;未观察到“印记效应”,数据图形对测试结果没有明显影响;多位翻转(MBU)比例无明显变化。

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