| | | | | 单体对大气下沉积SiO_x薄膜的性能研究 | | | 汤文杰;韩尔立;陈强;葛袁静 | | | 在大气压下,利用工作在16kHz的介质阻挡放电(DBD)等离子枪,以氩气为工作气体,分别用四甲基硅氧烷(TEOS)、六甲基硅氧烷(HMDSO)和八甲基环四硅氧烷(D4)为单体,通过改变载气流量、等离子体放电功率等研究聚合S iOx薄膜的结构性能影响。采用红外光谱(FTIR)分析所沉积S iOx薄膜的结构,通过接触角测试了解其表面亲/疏水性能。
【作者单位】：北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室等离子体物理与材料研究室 北京102600
【关键词】：大气压DBD;SiOx;单体
【分类号】：O613.72
【DOI】：cnki:ISSN:1001-3563.0.2006-04-020
【正文快照】：
S iOx薄膜在包装材料方面应用广泛。如真空镀铝一样,在塑料基材表面镀上一层氧化硅膜,不仅阻隔性能优良,耐蒸煮,而且近乎无色透明特性增加产品的透明度。更主要的是它具有良好的微波透过性能,扩大了普通包装的应用领域,对环境不会带来任何污染。此外,S iO2还可以作为介质层以及晶体管闸极氧化层被应用于集成电路[1-5]。如今,S iOx薄膜的研究、开发、制备及应用正向深度和广度推进。制备的方法已发展到如热蒸镀,电子束蒸镀,磁控溅射,等离子体增强化学气相沉积。近来采用大气压等离子体聚合不断出现[6],所采用的沉积单体也在不断改进。Sege… | | |  推荐 CAJ下载  PDF下载 | | | CAJViewer7.0阅读器支持所有CNKI文件格式，AdobeReader仅支持PDF格式 | | | | Investigation of SiO_x Films Synthesized with Different Precursors at Atmospheric Pressure | | | TANG Wen-jie;HAN Er-li;CHEN Qiang;GE Yuan-jing(Beijing Institute of Graphic Communication;Beijing 102600;China) | | | At atmospheric pressure,SiO_x films were deposited by using DBD plasma gun in different precursors(TEOS,HMDSO,and D_4) with Ar as carrier gas in 16 kHz high voltage power.The effects of plasma power and flow rate of carrier gas on the film properties were investigated.The structure of deposited films was characterized with Fourier transform infrared(FTIR),and the contact angle measurement was taken to reveal the film hydrophilic or hydrophobic features.
【Keyword】：atmospheric pressure;DBD;SiO_x;precursors |
| | | | | | 1 | 汤文杰,韩尔立,陈强,葛袁静; 单体对大气下沉积SiO_x薄膜的性能研究 [J];包装工程; 2006年04期; 62-64 | | 2 | 严勇健,吴雪梅,诸葛兰剑; 硅多孔层分离后稳定的可见蓝紫光发射特性 [J];苏州大学学报(自然科学版); 2003年04期; 76-81 | | 3 | 蒋海峰,陈翌庆,周庆涛,苏勇,张庶元,肖海花; SiO_x纳米管的制备及其发光特性(英文) [J];化学物理学报(英文版); 2006年06期; 45-48+97 |
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