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化学镀镍诱发过程催化活性的电化学本质

胡茂圃  王宝珏  沈卓身  潘金星  沈荣富  黄子勋  
【摘要】:XPS电子能谱技术的测定表明,化学镀诱发伊始,先只有镍的沉积,然后才有NiP的共沉积出现。结合铜基试样在所设计的4种溶液体系中动电位扫描伏安曲线的结果,初步显示,对化学镀镍具有催化特性的金属,从电化学本质上来说,就是一种自身能提供到达或超过镍的析出电位的金属。通过电极电位的理论计算及混合电位的测定,说明了化学镀镍首先是镍析出,然后再发生NiP共沉的机理

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