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《稀有金属》 1996年01期
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半导体材料稀土掺杂的理论及应用

屠海令  
【摘要】:近年来,稀土掺杂导体材料已成为引人注目的研究课题。本文阐述了硅和主要Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中掺杂的原理、掺杂方法;材料的制备及其电学、光学性质,并简要介绍了目前稀土掺杂半导体材料在光电器件方面的应用结果。
【作者单位】北京有色金属研究总院
【关键词】 砷化镓 磷化铟 稀土掺杂方法 光电器件
【分类号】:TN305.3
【正文快照】:
半导体材料稀土掺杂的理论及应用屠海令(北京有色金属研究总院100088)近年来,稀土掺杂导体材料已成为引人注目的研究课题。本文阐述了硅和主要Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中掺杂的原理、掺杂方法;材料的制备及其电学、光学性质,并简要介绍了目前稀土掺杂半导体材料在光

【引证文献】
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2 徐金宝,郑毓峰,李锦,孙言飞,吴荣;稀土钕离子对立方晶型FeS_2结构及光性能的影响[J];半导体学报;2005年04期
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1 贾韦;稀土铈介入化学沉积钴—镍—磷合金薄膜的研究[D];合肥工业大学;2007年
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3 孟岩;稀土Nd、Ce掺杂对化学镀Fe-P合金影响的研究[D];湖南大学;2006年
【同被引文献】
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7 沈德久,韩瑰民,金铮,于金库,邵光杰,王玉林,任可;稀土元素对Ni-P合金电刷镀层耐蚀性的影响[J];北京科技大学学报;1996年S2期
8 黄锦滨,朱宝亮,刘家浚,郑林庆,林力,张嗣伟;原子力显微镜下稀土元素对镍基刷镀层生长形貌影响的研究[J];中国表面工程;1999年01期
9 江静华,蒋建清,马爱斌,张旭海;稀土化学热处理及其发展现状[J];中国表面工程;2003年05期
10 徐瑞东,郭忠诚,王军丽,薛方勤;化学镀Ni-Cu-P合金工艺及性能研究[J];表面技术;2004年01期
【二级引证文献】
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2 蒋荣华,肖顺珍,张建新,杨卫东;新世纪国内外半导体硅材料的新发展[J];新材料产业;2004年03期
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7 高艳敏;稀土掺杂的钼酸盐纳米晶的制备与表征[D];长春理工大学;2009年
8 陈中玉;稀土掺杂复合材料的制备与性能研究[D];西北师范大学;2009年
9 李忠贤;稀土掺杂ZnTe纳米薄膜制备及特性研究[D];内蒙古大学;2009年
10 朱楚桥;稀土掺杂红、绿、紫色荧光粉的制备及光谱性质研究[D];湘潭大学;2009年
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