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《应用光学》 2002年02期
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透明导电半导体ZnO膜的研究

蒋向东  张怀武  黄祥成  
【摘要】:本文采用独特的电子束蒸镀方法,在光学镀膜机上,以 ZnO+3%Al2O3和 ZnO为膜料.k9光学玻璃为衬底,制备出ZnO 膜。膜层为多晶膜,可见光透过率为T=70-90%,电阻率p=1×10-5Ω·m,方电阻为 R =150±50±50Ω/ ,膜机械强度超过国标单层标准,找到实用最佳工艺条件。

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