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《特种铸造及有色合金》 2016年05期
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925银基底镀覆Ti/DLC薄膜工艺试验

袁军平  黄宇亨  林志勇  何家能  
【摘要】:针对925银传统着黑色工艺存在的缺点,采用溅射镀膜与阳极层离子源相结合的镀膜工艺,在925银基底上镀覆Ti/DLC膜,检测了不同工艺参数下膜层的性能。结果表明,通过调整负偏压、工作气体分压及镀膜时间等工艺参数,可以使Ti/DLC膜层获得较纯正、有光泽的暗黑色,并可调节其显微硬度及临界划痕载荷;当负偏压为-120V、Ar气分压为0.40Pa、时间为10min时在925银基底上溅射Ti膜,以及负偏压为-180V,乙炔分压在0.25~0.30Pa、时间为40~45min在Ti膜上沉积DLC膜时,Ti/DLC膜层的外观装饰效果、耐蚀性和力学性能等较好。

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