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非平衡磁控溅射技术在薄膜制备中的应用

黄琼俭  周永福  
【摘要】:非平衡磁控溅射技术是属于溅射沉积技术中常见的一类,有着沉积温蒂低、沉积速率高、制得的薄膜表面质量好等优点,广泛使用于无机薄膜涂层制备中。文中简要介绍了采用非平衡磁控溅射技术制备多种无机薄膜材料,如氧化钛、类金刚石、碳膜、氮化钛等。

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