化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响
【摘要】：化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。
|
|
|
|
| 1 |
苗心向;袁晓东;王海军;吕海兵;王成程;郑万国;;熔石英表面铜膜污染物诱导损伤实验研究[J];强激光与粒子束;2008年09期 |
| 2 |
尹伟;祖小涛;蒋晓东;袁晓东;吕海兵;王成程;郑万国;;经355nm激光预处理后熔石英的损伤增长[J];原子能科学技术;2009年09期 |
| 3 |
花金荣;蒋晓东;祖小涛;李莉;陈猛;袁晓东;郑万国;;熔石英亚表面横向划痕调制作用的3维模拟[J];强激光与粒子束;2010年07期 |
| 4 |
苗心向;袁晓东;程晓锋;贺少勃;郑万国;;表面污染物诱导熔石英损伤的热力学数值模拟[J];激光技术;2011年02期 |
| 5 |
章春来;王治国;向霞;刘春明;李莉;袁晓东;贺少勃;祖小涛;;熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟[J];物理学报;2012年11期 |
| 6 |
王积方,李华丽,唐汝明,查济璇,何寿安;熔石英的弹性模量和超声状态方程[J];物理学报;1982年10期 |
| 7 |
齐亚范,方敬忠;φ410mm轻型熔石英反射镜[J];光电工程;1999年01期 |
| 8 |
李仲伢,程雷,李成富;熔石英玻璃和白宝石晶体激光损伤的研究[J];中国激光;2002年10期 |
| 9 |
郭少锋,林文雄,陆启生,林宗志,邓少永;熔石英相位共轭镜无损工作状态分析[J];强激光与粒子束;2005年S1期 |
| 10 |
徐世珍;吕海兵;田东斌;蒋晓东;袁晓东;祖小涛;郑万国;;酸蚀深度对熔石英三倍频激光损伤阈值的影响[J];强激光与粒子束;2008年05期 |
|
快捷付款方式
订购知网充值卡
订购热线
帮助中心