高损伤阈值三倍频分离膜

【摘要】：设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2。经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1 064 nm处透射率也在99%以上。采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近。分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌。

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前20条

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2	吴先权;华文深;谢大兵;赵莉君;;基于改进型遗传算法的薄膜厚度及光学常数反演[J];光学仪器;2010年03期
3	薛锦;王平秋;刘琼;代礼密;;掺杂Gd_2O_3对ZrO_2薄膜负非均匀性的影响[J];光学仪器;2009年06期
4	;[J];;年期
5	;[J];;年期
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中国重要会议论文全文数据库

前10条

1	郝天亮;陈钢进;肖慧明;;电子束蒸发二氧化硅薄膜的制备及其驻极体特性研究[A];第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集（第7分册）[C];2010年
2	刘亚军;娄朝刚;;电子束蒸发制备纳米柱状SiO_2减反射膜[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年
3	吴永刚;吴广明;倪星元;周箴;张慧琴;吴翔;;氧化镍薄膜电致变色性能及机理研究[A];第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集[C];1998年
4	吴平;李希;高艳清;邱宏;王凤平;潘礼庆;田跃;;用电子束蒸发方法制备Ni_(80)Fe_(20)薄膜[A];2005年全国高校非物理类专业物理教育学术研讨会论文集[C];2005年
5	邓金祥;郭清秀;赵卫平;杨冰;杨萍;;电子束蒸发制备氮化硼薄膜的红外光谱研究[A];第十五届全国光散射学术会议论文摘要集[C];2009年
6	黄国俊;潘永强;;离子束辅助沉积非晶硅薄膜红外光学特性研究[A];2010年西部光子学学术会议摘要集[C];2010年
7	杨陈;樊慧庆;惠迎雪;;沉积温度对反应电子束蒸发TiO_2薄膜结构和光学性能的影响[A];2006年全国光电技术学术交流会会议文集（B 光学系统设计与制造技术专题）[C];2006年
8	程志英;朱静;;Si基TiN薄膜界面的显微结构[A];第八次全国电子显微学会议论文摘要集（Ⅱ）[C];1994年
9	刘慧舟;杨坚;张华;古宏伟;;在移动NiW基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究[A];中国有色金属学会第十二届材料科学与合金加工学术年会论文集[C];2007年
10	汪旭洋;邓金祥;张晓康;姚倩;王玲;;电子束蒸发立方氮化硼薄膜的光学性质[A];第十五届全国分子光谱学术报告会论文集[C];2008年

中国博士学位论文全文数据库

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1	朱红妹;电子束蒸发原位退火生长MgB_2超导薄膜及其物性研究[D];上海大学;2007年
2	祁康成;六硼化镧场发射特性研究[D];电子科技大学;2008年
3	史林兴;纳米ZnO复合薄膜制备与光学特性研究[D];南京理工大学;2007年
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5	王永进;SOI光波导器件及其增透膜的研究[D];中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所）;2005年
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中国硕士学位论文全文数据库

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1	陈艳伟;电子束蒸发制备ZnO:Al薄膜及光电性质研究与普通物理实验改革[D];东北师范大学;2003年
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7	王子健;电子束蒸发制备掺铝氧化锌透明导电膜[D];郑州大学;2007年
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